簡要描述：CRS2000系列超微細碳酸鈣高速分散機的特點：① 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨② 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。③ 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離④ 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。⑤ 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
產品型號： CRS2000/4
所屬分類：超高速分散機
更新時間：2024-12-14
超微細碳酸鈣高速分散機，納米高剪切分散機，三級納米分散機，管線式超高速分散機，超高速研磨分散機，高速均質研磨分散機
納米碳酸鈣又稱超微細碳酸鈣。標準的名稱即超細碳酸鈣。納米碳酸鈣應用zui成熟的行業(yè)是塑料工業(yè)主要應用于高檔塑料制品?？筛纳扑芰夏噶系牧髯冃裕岣咂涑尚托浴Ｓ米魉芰咸盍暇哂性鲰g補強的作用，提高塑料的彎曲強度和彎曲彈性模量，熱變形溫度和尺寸穩(wěn)定性，同時還賦予塑料滯熱性。納米碳酸鈣用于油墨產品中體現出了優(yōu)異的分散性和透明性和較好的光澤、及優(yōu)異的油墨吸收性和高干燥性。納米碳酸鈣在樹脂型油墨中作油墨填料，具有穩(wěn)定性好，光澤度高，不影響印刷油墨的干燥性能．適應性強等優(yōu)點。
：納米碳酸鈣分散到水中或者溶劑當中，容易出現抱團的現象，導致物料粒徑變大，分散效果不佳，產品改性不充分。
如果使用普通的分散設備，很難將納米碳酸鈣分散均勻，會出現團聚的現象，團聚體難以打開，而如果采用CIK研發(fā)的分散設備，研磨分散機的話，先研磨后分散機，解決團聚問題，可達納米碳酸鈣還原至納米級。
超微細碳酸鈣高速分散機特點：
① 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨
② 定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
④ 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
CIK研磨式分散機，是由膠體磨+分散機結合而成的設備，主要是為了解決納米級物料的分散，如：納米碳酸鈣、納米氧化鋁、石墨烯、碳納米管等納米級物料的分散。
CRS2000系列研磨分散設備是CIK（上海）公司經過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
型號 | 標準流量 L/H | 輸出轉速 rpm | 標準線速度 m/s | 馬達功率 KW | 進口尺寸 | 出口尺寸 |
CRS2000/4 | 300-1，000 | 9，000 | 23 | 2.2 | DN25 | DN15 |
CRS2000/5 | 3，000 | 6，000 | 23 | 7.5 | DN40 | DN32 |
CRS2000/10 | 8，000 | 4，200 | 23 | 15 | DN50 | DN50 |
CRS2000/20 | 20，000 | 3，000 | 23 | 37 | DN80 | DN65 |
CRS2000/30 | 40，000 | 1，500 | 23 | 55 | DN150 | DN125 |
CRS2000/40 | 70，000 | 1，500 | 23 | 90 | DN150 | DN125 |
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